Detail projektu

Diagnostika plazmatu obsahujícího uhlovodíky

Období řešení: 01.01.2003 — 31.12.2003

O projektu

Projekt se zaměřuje na studium problematiku diagnostiky plazmatu obsahujícího vyší koncentrace jednoduchých uhlovodíků, přičemž nosnými plyny budou argon a směsi argonu s dusíkem. Hlavní diagnostickou metodou bude optická emisní spektroskopie, jako další metody budou využity EPR spektroskopie, plynová chromatografie a další metody analytické chemie. Pomocí těchto metod bude stanoveno složení plazmatu aktivního mikrovlnného výboje, teploty neutrálního plynu a vibrační rozdělení zářivých stavů dvouatomových molekul ve výboji. Cílem projektu je poznání procesů probíhajících v plazmatu s ohledem na aplikaci při depozicích tenkých vrstev na bázi uhlíku (karbidy, karbonitridy). Kromě modelových pokusů na pracovišti řešitelky budou prováděna i měření na poloprovozním zařízení instalovaném ve firmě HVM Plasma. Experimentální výsledky budou prezentovány na mezinárodní konferenci International Symposium on Plasma Chemistry, která proběhne v létě 2003 na Sicílii a jíž se řešitelka bude aktivně účastnit. Výsledky získané během řešení projektu se rovněž stanou základem jedné až dvou nových úloh pro Praktikum z chemie a fyziky nízkoteplotního plazmatu, které je využíváno i studenty přírodovědecké fakulty MU.

Popis anglicky
Project cover the diagnostics of plasma containing higher concentrations of the simple hydrocarbons. Argon and its mixtures with nitrogen will be used as buffer gases. The optical emission spectroscopy will be the main diagnostic method, the EPR, gas chromatography and the other analytical methods will be applied, too. The plasma composition, neutral gas temperature and the vibrational distributions of radiative state will be calculated. The processes in these discharges will be studied under this project with respect on the potential application in the thin films plasma deposition. The results will be presented on the International Symposium on Plasma Chemistry in Taormina (2003) and they will be included into the doctoral Thesis of the applicant. They will be also a basis for the preparation of a new practical task at our faculty.

Klíčová slova
plazmochemická depozice, diagnostika plazmatu, organosilikony

Klíčová slova anglicky
Plasma chemical deposition, plasma diagnostics, organosilicones

Označení

IS2003/895

Originální jazyk

čeština

Řešitelé

Rašková Zuzana, Ing. - hlavní řešitel
Krčma František, doc. RNDr., Ph.D. - spoluřešitel

Útvary

Fakulta chemická
- příjemce (01.01.2003 - nezadáno)

Zdroje financování

Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR - Fond rozvoje vysokých škol (FRVŠ)

- částečně financující (2003-03-18 - nezadáno)

Výsledky

RAŠKOVÁ, Z., ŠORMOVÁ, H., HAVELKOVÁ, I., KRČMA, F., VANĚK, J., PŘIKRYL, R., ČECH, V. Spectroscopic Observation of Plasma Deposition of Thin Silane and Siloxane Based Films. In Proceedings of Frontiers in Low Temperature Plasma Diagnostics V. Bari: Universita Bari, 2003. p. 214 ( p.)
Detail

RAŠKOVÁ, Z., ŠORMOVÁ, H., HAVELKOVÁ, I., KRČMA, F., VANĚK, J., PŘIKRYL, R., ČECH, V. Spectroscopic Observation of Low Pressure Plasma Deposition of Thin Silane and Siloxane Based Films. In Proceedings of ISPC XVI. Taormina: IUPAC, 2003. p. 1 ( p.)
Detail

Rašková, Z., Brandejs, K., Krčma, F., Vaněk, J. Plasma Diagnostic During Deposition Processes of Silane Based Thin Films. Czechoslovak Journal of Physics, 2004, vol. 54, no. C, p. 1036 ( p.)ISSN: 0011-4626.
Detail

Rašková, Z., Brandejs, K., Cvrčková, O., Krčma, F. Investigation of RF low-temperature discharge by OES and GC-MS during deposition of silane based thin films. In Proceedings of Week of Doctoral Students. Praha: Matfyzpress, 2004. p. 367 ( p.)ISBN: 80-86732-32-0.
Detail

RAŠKOVÁ, Z., ŠORMOVÁ, H., HAVELKOVÁ, I., KRČMA, F., VANĚK, J., PŘIKRYL, R., ČECH, V. Spectroscopic Monitoring of Plasma Deposition of Silane and Siloxane Based Thin Films. Acta Physica Slovaca, 2003, vol. 53, no. 5, p. 401 ( p.)ISSN: 0323-0465.
Detail

RAŠKOVÁ, Z., ŠORMOVÁ, H., HAVELKOVÁ, I., KRČMA, F., VANĚK, J., PŘIKRYL, R., ČECH, V. Spectroscopic monitoring of low pressure plasma deposition of Silane and Siloxane based thin films. In Proceedings of the 12th Annual Conference of Doctoral Students - WDS 2003. Praha: MATFYZPRESS, 2003. p. 441 ( p.)ISBN: 80-86732-18-5.
Detail