Publication detail

Změny dielektrického spektra glycerolu při dlouhodobé expozici při nízkých teplotách

STRÁNÍK, R. LIEDERMANN, K.

Original Title

Změny dielektrického spektra glycerolu při dlouhodobé expozici při nízkých teplotách

Czech Title

Změny dielektrického spektra glycerolu při dlouhodobé expozici při nízkých teplotách

English Title

Změny dielektrického spektra glycerolu při dlouhodobé expozici při nízkých teplotách

Type

conference paper

Language

cs

Original Abstract

Příspěvek se zabývá vlivem dlouhodobé expozice typického sklotvorného materiálu - glycerolu - při nízkých teplotách (170 - 300 K) na jeho dielektrické spektrum ve frekvenčním rozsahu 100 Hz - 1 MHz. Zejména jsou studovány změny průběhu vysokofrekvenční strany pozorovaného relaxačního maxima v závislosti na době expozice. Přechod od přímkového průběhu ?''=f(?), pozorovaného při krátkých dobách expozice, k průběhu zakřivenému, jenž je pozorován při prodlužování expozice, je interpretován jako projev dalšího relaxačního procesu, jenž je při krátkých expozicích překryt původním relaxačním maximem a který se teprve postupně vynořuje z pozadí. Výskyt tohoto druhého relaxačního procesu je sledován v závislosti na dvou parametrech - teplotě vzorku a době expozice. Jsou diskutovány mikroskopické mechanismy, vedoucí k jeho vzniku..

Czech abstract

Příspěvek se zabývá vlivem dlouhodobé expozice typického sklotvorného materiálu - glycerolu - při nízkých teplotách (170 - 300 K) na jeho dielektrické spektrum ve frekvenčním rozsahu 100 Hz - 1 MHz. Zejména jsou studovány změny průběhu vysokofrekvenční strany pozorovaného relaxačního maxima v závislosti na době expozice. Přechod od přímkového průběhu ?''=f(?), pozorovaného při krátkých dobách expozice, k průběhu zakřivenému, jenž je pozorován při prodlužování expozice, je interpretován jako projev dalšího relaxačního procesu, jenž je při krátkých expozicích překryt původním relaxačním maximem a který se teprve postupně vynořuje z pozadí. Výskyt tohoto druhého relaxačního procesu je sledován v závislosti na dvou parametrech - teplotě vzorku a době expozice. Jsou diskutovány mikroskopické mechanismy, vedoucí k jeho vzniku..

English abstract

Příspěvek se zabývá vlivem dlouhodobé expozice typického sklotvorného materiálu - glycerolu - při nízkých teplotách (170 - 300 K) na jeho dielektrické spektrum ve frekvenčním rozsahu 100 Hz - 1 MHz. Zejména jsou studovány změny průběhu vysokofrekvenční strany pozorovaného relaxačního maxima v závislosti na době expozice. Přechod od přímkového průběhu ?''=f(?), pozorovaného při krátkých dobách expozice, k průběhu zakřivenému, jenž je pozorován při prodlužování expozice, je interpretován jako projev dalšího relaxačního procesu, jenž je při krátkých expozicích překryt původním relaxačním maximem a který se teprve postupně vynořuje z pozadí. Výskyt tohoto druhého relaxačního procesu je sledován v závislosti na dvou parametrech - teplotě vzorku a době expozice. Jsou diskutovány mikroskopické mechanismy, vedoucí k jeho vzniku..

Keywords

DRS, glycerol

RIV year

2007

Released

11.09.2007

Publisher

ZČU v Plzni

Location

Plzeň

ISBN

978-80-7043-557-1

Book

Diagnostika 07

Edition

1

Edition number

1

Pages from

299

Pages to

302

Pages count

4

BibTex


@inproceedings{BUT25269,
  author="Rostislav {Stráník} and Karel {Liedermann}",
  title="Změny dielektrického spektra glycerolu při dlouhodobé expozici při nízkých teplotách",
  annote="Příspěvek se zabývá vlivem dlouhodobé expozice typického sklotvorného materiálu - glycerolu - při nízkých teplotách (170 - 300 K) na jeho dielektrické spektrum ve frekvenčním rozsahu 100 Hz - 1 MHz. Zejména jsou studovány změny průběhu vysokofrekvenční strany pozorovaného relaxačního maxima v závislosti na době expozice. Přechod od přímkového průběhu ?''=f(?),  pozorovaného při krátkých dobách expozice, k průběhu zakřivenému, jenž je pozorován při prodlužování expozice, je interpretován jako projev dalšího relaxačního procesu, jenž je při krátkých expozicích překryt původním relaxačním maximem a který se teprve postupně vynořuje z pozadí. Výskyt tohoto druhého relaxačního procesu je sledován v závislosti na dvou parametrech - teplotě vzorku a době expozice. Jsou diskutovány mikroskopické mechanismy, vedoucí k jeho vzniku..",
  address="ZČU v Plzni",
  booktitle="Diagnostika 07",
  chapter="25269",
  edition="1",
  institution="ZČU v Plzni",
  year="2007",
  month="september",
  pages="299--302",
  publisher="ZČU v Plzni",
  type="conference paper"
}