RUV detail

2021 Shanghai Design 10×10, Global Poster Invitational Exhibition

RAJLICH, J.

Segment

grafický design

Activity type

Vystavený design

Keywords

autorský plakát, vystavený plakát Jana Rajlicha, mezinárodní výstava plakátu

Create date

21. 12. 2021

Location

China Art Museum, Čína, Shanghai, 21.12.2021 - 14.01.2022