prototyp

Hlavním cílem projektu je vývoj a konstrukce hybridní technologie pro nanášení povlaků pomocí plazmatického nástřiku ve vakuu a fyzikální depozice z plynné fáze a/nebo naprašování. Zařízení je určeno pro nanášení pokročilých vícevrstvých a gradientních povlaků, u kterých lze dosáhnout výrazného zlepšení užitných vlastností kombinací obou technologií, ať už pomocí sekvenčního nanášení nebo pomocí ko-depozice. Kombinace technologií umožní využít předností obou metod, zejména vysokých rychlostí nanášení a možnosti řízení mikrostruktury povlaku v případě plazmatického nástřiku a obecně výhodnějších fyzikálních vlastností povlaku v případě fyzikální depozice z plynné fáze, bez nutnosti mezioperačních manipulací s povlakovaným dílem. Technologie kombinovaného zdroje plazmatu bude také umožňovat nanostrukturní modifikace povrchu a/nebo čištění podkladových i deponovaných povrchů pomocí DC plazmatu.

Vakuum; depozice; plasma; PVD

24. 6. 2019

laboratoře Activair s.r.o.

K využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence

Poskytovatel licence na výsledek požaduje licenční poplatek