funkční vzorek

Zařízení je určeno pro depozici ultratenkých uhlíkových vrstev a dopování polovodičových materiálů (napřiklad GaN, GaAs) v podmínkách UHV. Atomy uhlíku sublimují z HOPG vlákna, které je žhaveno průchodem proudu (I = 55 A). Teplota vlákna je snímána pomocí termočlánků.

Sublimační zdroj; zdroj atomů uhlíku; efuzní cela; ultratenké vrstvy; UHV; depozice, dopovaní

14. 12. 2014

Lboratoř 518, ÚFI FSI VUT v Brně.

K využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence

Poskytovatel licence na výsledek nepožaduje v některých případech licenční poplatek

http://surfaces.fme.vutbr.cz/laboratories/developed-instruments/2014-07/