Project detail

Modulární rastrovací elektronový mikroskop

Duration: 01.04.2010 — 31.05.2014

Funding resources

Ministerstvo průmyslu a obchodu ČR - TIP

- whole funder (2010-04-01 - 2014-05-31)

On the project

Předmětem projektu je vývoj nového komerčně konkurenceschopného rastrovacího elektronového mikroskopu pro nanotechnologie a nanovědy se zřetelem na vysoký stupněm modulárnosti, zlepšeného rozlišení při nízkých energiích elektronů a jednoduchost při zachování ostatních špičkových parametrů. Toho bude dosaženo návrhem, výrobou a implementací nového tubusu REM, vývojem a testováním nových kompozitních prvků pro studenou emisi elektronů připravených průmyslově kompatibilní plazmovou technologií, vývojem a praktickým ověřováním provozu pokročilých analytických a technologických modulů a jejich kombinací v REM, a realizací demonstrátoru modulárního multifunkčního REM zařízení s aplikačními listy pro jeho využití.

Description in English
In this project we develop new commercially competitive scanning electron microscope for nanotechnologies and nanosciences with a special view to it high degree of modularity, improved resolution at low electron energies and simplicity while preserving other front-end parameters. This will be accomplished by design, fabrication, and implementation on novel SEM tube, by development and testing of novel cold emission elements prepared by industry-compatible plasma technology, by development and practical application of advanced analytical and technological modules as well as their combination in SEM, and by assembling a demonstrator of modular multifunctional SEM apparatus with application sheets for its practical use.

Keywords
elektronová optika, elektronový mikroskop, elektronové detektory, uhlíkové materiály, studená emise, nanomanipulátory, proud indukovaný elektronovými paprsky, depozice, leptání, nanotechnologie, nanověda,

Key words in English
electron optics; electron microscope; electron detectors; carbon materials; cold emission; nanomanipulators; electron beam induced currents; ion beam deposition; ion beam etching; nanotechnology; nanosciences; application sheets

Mark

FR-TI2/736

Default language

Czech

People responsible

Šikola Tomáš, prof. RNDr., CSc. - fellow researcher
Jiruše Jaroslav, Ing., Ph.D. - principal person responsible

Units

Institute of Physical Engineering
- (2010-04-01 - 2014-05-31)

Results

MACH, J.; ŠAMOŘIL, T.; VOBORNÝ, S.; KOLÍBAL, M.; ZLÁMAL, J.; SPOUSTA, J.; DITTRICHOVÁ, L.; ŠIKOLA, T. An ultra-low energy (30–200 eV) ion-atomic beam source for ion-beam-assisted deposition in ultrahigh vacuum. Review of Scientific Instruments, 2011, vol. 82, no. 8, p. 083302-1 (083302-7 p.)ISSN: 0034-6748.
Detail

BŘÍNEK, L.; DVOŘÁK, P.; NEUMAN, T.; DUB, P.; KALOUSEK, R.; ŠIKOLA, T. Aplikace rastrovací optické mikroskopie v blízkém poli pro plasmoniku. Jemná mechanika a optika, 2013, roč. 58, č. 6, s. 169-171. ISSN: 0447-6441.
Detail

KOLOŠOVÁ, J.; HRNČÍŘ, T.; JIRUŠE, J.; RUDOLF, M.; ZLÁMAL, J. On the Calculation of SEM and FIB Beam Profiles. MICROSCOPY AND MICROANALYSIS, 2015, vol. 21, no. S4, p. 206-211. ISSN: 1431-9276.
Detail

MACH, J.; ŠAMOŘIL, T.; KOLÍBAL, M.; ZLÁMAL, J.; VOBORNÝ, S.; BARTOŠÍK, M.; ŠIKOLA, T. Optimization of ion-atomic beam source for deposition of GaN ultrathin films. Review of Scientific Instruments, 2014, vol. 85, no. 8, p. 083302-1 (083302-5 p.)ISSN: 0034-6748.
Detail

MACH, J.; PIASTEK, J.; Vysoké učení technické v Brně, Brno, CZ: Měřicí hlava pro měření emisivity studených katod. 27572, užitný vzor. (2014)
Detail

MACH, J.: Měření studených katod; Zařízení pro měření I-V křivek emise studených katod. A2/518. (funkční vzorek)
Detail