funkční vzorek

Navržené a realizované zařízení je určeno pro přípravu grafenovývh struktur v podmínkách nízkého vakua. Dále lze zařízení použít k žíhání materiálů v podmínkách vysokého vakua. Maxilální dosahovaná teplota je 1100 oC a základní tlak je 1*10-6 mbar. Užitím PC je možno ovládat průtok dvou druhů plynu v rozsahu toků (0-10 sccm a 0-100 sccm), také měnit čerpací rychlost systému, tlak a teplotu uvnitř pece. Cely systém je chlazen průtokem vody.

Vakuum, syntéza, CVD

14. 2. 2012

A2/518

Využití výsledku jiným subjektem je možné bez nabytí licence (výsledek není licencován)

Poskytovatel licence na výsledek nepožaduje licenční poplatek