Detail publikace

Změny dielektrického spektra polymeru při dlouhodobé expozici při nízkých teplotách

HOLCMAN, V. LIEDERMANN, K. STRÁNÍK, R.

Originální název

Změny dielektrického spektra polymeru při dlouhodobé expozici při nízkých teplotách

Český název

Změny dielektrického spektra polymeru při dlouhodobé expozici při nízkých teplotách

Anglický název

Change of dielectrics spectrum of polymers during long exposition and low temperatures

Typ

článek v časopise

Jazyk

cs

Originální abstrakt

Příspěvek se zabývá vlivem dlouhodobé expozice typického sklotvorného materiálu - při nízkých teplotách (170 - 300 K) na jeho dielektrické spektrum ve frekvenčním rozsahu 100 Hz - 1 MHz. Zejména jsou studovány změny průběhu vysokofrekvenční strany pozorovaného relaxačního maxima v závislosti na době expozice. Přechod od přímkového průběhu ?''=f(?), pozorovaného při krátkých dobách expozice, k průběhu zakřivenému, jenž je pozorován při prodlužování expozice, je interpretován jako projev dalšího relaxačního procesu, jenž je při krátkých expozicích překryt původním relaxačním maximem a který se teprve postupně vynořuje z pozadí. Výskyt tohoto druhého relaxačního procesu je sledován v závislosti na dvou parametrech - teplotě vzorku a době expozice. Jsou diskutovány mikroskopické mechanismy, vedoucí k jeho vzniku.

Český abstrakt

Příspěvek se zabývá vlivem dlouhodobé expozice typického sklotvorného materiálu - při nízkých teplotách (170 - 300 K) na jeho dielektrické spektrum ve frekvenčním rozsahu 100 Hz - 1 MHz. Zejména jsou studovány změny průběhu vysokofrekvenční strany pozorovaného relaxačního maxima v závislosti na době expozice. Přechod od přímkového průběhu ?''=f(?), pozorovaného při krátkých dobách expozice, k průběhu zakřivenému, jenž je pozorován při prodlužování expozice, je interpretován jako projev dalšího relaxačního procesu, jenž je při krátkých expozicích překryt původním relaxačním maximem a který se teprve postupně vynořuje z pozadí. Výskyt tohoto druhého relaxačního procesu je sledován v závislosti na dvou parametrech - teplotě vzorku a době expozice. Jsou diskutovány mikroskopické mechanismy, vedoucí k jeho vzniku.

Anglický abstrakt

The paper deals with the influence of longtime exposition of typical glass - forming material at low temperatures (100 - 300 K) over its dielectric spectrum in frequency range 100 Hz - 1 MHz. Changes of the process of high - frequency part of watched relaxation maximum depending on the time of exposition are studied in the main. The transition from linear process ?''=f(?), watched at short time of exposition, to incurvate process, watched at protraction of exposition, is explicated as a denotation of another relaxation process, which is covered with the original relaxation maximum at short time of exposition and which crops out step by step from the background. The occurrence of this second relaxation process is watched according to two arguments - temperature of the sample and time of the exposition. The microscopic mechanism is discussed, which leads to its rise.

Klíčová slova

dielektricka spektroskopie, sklotvorné materialy, relaxační maximum

Rok RIV

2010

Vydáno

01.10.2010

Nakladatel

Jemná mechanika a optika

Místo

Olomouc

Strany od

279

Strany do

281

Strany počet

3

BibTex


@article{BUT50151,
  author="Vladimír {Holcman} and Karel {Liedermann} and Rostislav {Stráník}",
  title="Změny dielektrického spektra polymeru při dlouhodobé expozici při nízkých teplotách",
  annote="Příspěvek se zabývá vlivem dlouhodobé expozice typického sklotvorného materiálu - při nízkých teplotách (170 - 300 K) na jeho dielektrické spektrum ve frekvenčním rozsahu 100 Hz - 1 MHz. Zejména jsou studovány změny průběhu vysokofrekvenční strany pozorovaného relaxačního maxima v závislosti na době expozice. Přechod od přímkového průběhu ?''=f(?),  pozorovaného při krátkých dobách expozice, k průběhu zakřivenému, jenž je pozorován při prodlužování expozice, je interpretován jako projev dalšího relaxačního procesu, jenž je při krátkých expozicích překryt původním relaxačním maximem a který se teprve postupně vynořuje z pozadí. Výskyt tohoto druhého relaxačního procesu je sledován v závislosti na dvou parametrech - teplotě vzorku a době expozice. Jsou diskutovány mikroskopické mechanismy, vedoucí k jeho vzniku.",
  address="Jemná mechanika a optika",
  chapter="50151",
  institution="Jemná mechanika a optika",
  journal="Jemná mechanika a optika",
  number="10",
  volume="2010",
  year="2010",
  month="october",
  pages="279--281",
  publisher="Jemná mechanika a optika",
  type="journal article"
}