Detail publikace

Optimalizace plazmatického iontového zdroje pro přímou depozici tenkých vrstev

VOBORNÝ, S., ZLÁMAL, J.

Originální název

Optimalizace plazmatického iontového zdroje pro přímou depozici tenkých vrstev

Český název

Optimalizace plazmatického iontového zdroje pro přímou depozici tenkých vrstev

Typ

článek ve sborníku ve WoS nebo Scopus

Jazyk

cs

Originální abstrakt

Optimalizace plazmatického iontového zdroje pro přímou depozici tenkých vrstev

Český abstrakt

Optimalizace plazmatického iontového zdroje pro přímou depozici tenkých vrstev

Rok RIV

2001

Vydáno

05.12.2000

Nakladatel

Vutium

Místo

Brno

Strany od

353

Strany do

356

Strany počet

4

Dokumenty

BibTex


@inproceedings{BUT4508,
  author="Stanislav {Voborný} and Jakub {Zlámal}",
  title="Optimalizace plazmatického iontového zdroje pro přímou depozici tenkých vrstev",
  annote="Optimalizace plazmatického iontového zdroje pro přímou depozici tenkých vrstev",
  address="Vutium",
  booktitle="II. sborník příspěvků doktorandů, konference u příležitosti 100. výročí založení FSI",
  chapter="4508",
  institution="Vutium",
  year="2000",
  month="december",
  pages="353",
  publisher="Vutium",
  type="conference paper"
}