Detail publikace

Optimalizace plazmatického iontového zdroje pro přímou depozici tenkých vrstev

VOBORNÝ, S., ZLÁMAL, J.

Originální název

Optimalizace plazmatického iontového zdroje pro přímou depozici tenkých vrstev

Anglický název

A plasmatic ion source optimalisation for direct deposition of thin films

Typ

článek ve sborníku ve WoS nebo Scopus

Jazyk

čeština

Originální abstrakt

Optimalizace plazmatického iontového zdroje pro přímou depozici tenkých vrstev

Anglický abstrakt

An optimalization of plasmatic ion source for direct deposition of thin films and layers.

Klíčová slova v angličtině

Ion source

Autoři

VOBORNÝ, S., ZLÁMAL, J.

Rok RIV

2001

Vydáno

5. 12. 2000

Nakladatel

Vutium

Místo

Brno

Strany od

353

Strany do

356

Strany počet

4

BibTex

@inproceedings{BUT4508,
  author="Stanislav {Voborný} and Jakub {Zlámal}",
  title="Optimalizace plazmatického iontového zdroje pro přímou depozici tenkých vrstev",
  booktitle="II. sborník příspěvků doktorandů, konference u příležitosti 100. výročí založení FSI",
  year="2000",
  pages="4",
  publisher="Vutium",
  address="Brno"
}