Detail publikace

Změny dielektrického spektra glycerolu při dlouhodobé expozici při nízkých teplotách

STRÁNÍK, R. LIEDERMANN, K.

Originální název

Změny dielektrického spektra glycerolu při dlouhodobé expozici při nízkých teplotách

Český název

Změny dielektrického spektra glycerolu při dlouhodobé expozici při nízkých teplotách

Anglický název

Změny dielektrického spektra glycerolu při dlouhodobé expozici při nízkých teplotách

Typ

článek ve sborníku

Jazyk

cs

Originální abstrakt

Příspěvek se zabývá vlivem dlouhodobé expozice typického sklotvorného materiálu - glycerolu - při nízkých teplotách (170 - 300 K) na jeho dielektrické spektrum ve frekvenčním rozsahu 100 Hz - 1 MHz. Zejména jsou studovány změny průběhu vysokofrekvenční strany pozorovaného relaxačního maxima v závislosti na době expozice. Přechod od přímkového průběhu ?''=f(?), pozorovaného při krátkých dobách expozice, k průběhu zakřivenému, jenž je pozorován při prodlužování expozice, je interpretován jako projev dalšího relaxačního procesu, jenž je při krátkých expozicích překryt původním relaxačním maximem a který se teprve postupně vynořuje z pozadí. Výskyt tohoto druhého relaxačního procesu je sledován v závislosti na dvou parametrech - teplotě vzorku a době expozice. Jsou diskutovány mikroskopické mechanismy, vedoucí k jeho vzniku..

Český abstrakt

Příspěvek se zabývá vlivem dlouhodobé expozice typického sklotvorného materiálu - glycerolu - při nízkých teplotách (170 - 300 K) na jeho dielektrické spektrum ve frekvenčním rozsahu 100 Hz - 1 MHz. Zejména jsou studovány změny průběhu vysokofrekvenční strany pozorovaného relaxačního maxima v závislosti na době expozice. Přechod od přímkového průběhu ?''=f(?), pozorovaného při krátkých dobách expozice, k průběhu zakřivenému, jenž je pozorován při prodlužování expozice, je interpretován jako projev dalšího relaxačního procesu, jenž je při krátkých expozicích překryt původním relaxačním maximem a který se teprve postupně vynořuje z pozadí. Výskyt tohoto druhého relaxačního procesu je sledován v závislosti na dvou parametrech - teplotě vzorku a době expozice. Jsou diskutovány mikroskopické mechanismy, vedoucí k jeho vzniku..

Anglický abstrakt

Příspěvek se zabývá vlivem dlouhodobé expozice typického sklotvorného materiálu - glycerolu - při nízkých teplotách (170 - 300 K) na jeho dielektrické spektrum ve frekvenčním rozsahu 100 Hz - 1 MHz. Zejména jsou studovány změny průběhu vysokofrekvenční strany pozorovaného relaxačního maxima v závislosti na době expozice. Přechod od přímkového průběhu ?''=f(?), pozorovaného při krátkých dobách expozice, k průběhu zakřivenému, jenž je pozorován při prodlužování expozice, je interpretován jako projev dalšího relaxačního procesu, jenž je při krátkých expozicích překryt původním relaxačním maximem a který se teprve postupně vynořuje z pozadí. Výskyt tohoto druhého relaxačního procesu je sledován v závislosti na dvou parametrech - teplotě vzorku a době expozice. Jsou diskutovány mikroskopické mechanismy, vedoucí k jeho vzniku..

Klíčová slova

DRS, glycerol

Rok RIV

2007

Vydáno

11.09.2007

Nakladatel

ZČU v Plzni

Místo

Plzeň

ISBN

978-80-7043-557-1

Kniha

Diagnostika 07

Edice

1

Číslo edice

1

Strany od

299

Strany do

302

Strany počet

4

BibTex


@inproceedings{BUT25269,
  author="Rostislav {Stráník} and Karel {Liedermann}",
  title="Změny dielektrického spektra glycerolu při dlouhodobé expozici při nízkých teplotách",
  annote="Příspěvek se zabývá vlivem dlouhodobé expozice typického sklotvorného materiálu - glycerolu - při nízkých teplotách (170 - 300 K) na jeho dielektrické spektrum ve frekvenčním rozsahu 100 Hz - 1 MHz. Zejména jsou studovány změny průběhu vysokofrekvenční strany pozorovaného relaxačního maxima v závislosti na době expozice. Přechod od přímkového průběhu ?''=f(?),  pozorovaného při krátkých dobách expozice, k průběhu zakřivenému, jenž je pozorován při prodlužování expozice, je interpretován jako projev dalšího relaxačního procesu, jenž je při krátkých expozicích překryt původním relaxačním maximem a který se teprve postupně vynořuje z pozadí. Výskyt tohoto druhého relaxačního procesu je sledován v závislosti na dvou parametrech - teplotě vzorku a době expozice. Jsou diskutovány mikroskopické mechanismy, vedoucí k jeho vzniku..",
  address="ZČU v Plzni",
  booktitle="Diagnostika 07",
  chapter="25269",
  edition="1",
  institution="ZČU v Plzni",
  year="2007",
  month="september",
  pages="299--302",
  publisher="ZČU v Plzni",
  type="conference paper"
}