Detail produktu
Epitaxní vrstva AlN nadeponovaná vysokoteplotní aparaturou MOCVD
ŠIK, O. VOBORNÝ, S. MÜNZ, F. HUBÁLEK, J.
Typ produktu
funkční vzorek
Abstrakt
SEM, XRD, XPS analýza a elipsometrie epitaxní vrstvy AlN rostlé na safírovém substrátu metodou MOCVD.
Klíčová slova
GaN, epitaxy, SEM, XRD, XPS, Ellipsometry, MOCVD
Datum vzniku
31.12.2018
Umístění
CEITEC, Research group RG102
Možnosti využití
K využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence
Licenční poplatek
Poskytovatel licence na výsledek požaduje licenční poplatek
www
Dokumenty