Detail produktu
Epitaxní vrstva InN nadeponovaná nízkoteplotní aparaturou MOCVD
ŠIK, O. MÜNZ, F. VOBORNÝ, S. HUBÁLEK, J.
Typ produktu
funkční vzorek
Abstrakt
SEM, XPS a XRD analyza epitaxní vrstvy InN rostlé na safírovém substrátu metodou MOCVD.
Klíčová slova
InN, epitaxy, SEM, XPS, XRD, MOCVD
Datum vzniku
27.03.2018
Umístění
CEITEC, Research group RG102
Možnosti využití
K využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence
Licenční poplatek
Poskytovatel licence na výsledek požaduje licenční poplatek
www
Dokumenty