Detail produktu

Epitaxní vrstva InN nadeponovaná nízkoteplotní aparaturou MOCVD

ŠIK, O. MÜNZ, F. VOBORNÝ, S. HUBÁLEK, J.

Typ produktu

funkční vzorek

Abstrakt

SEM, XPS a XRD analyza epitaxní vrstvy InN rostlé na safírovém substrátu metodou MOCVD.

Klíčová slova

InN, epitaxy, SEM, XPS, XRD, MOCVD

Datum vzniku

27. 3. 2018

Umístění

CEITEC, Research group RG102

Možnosti využití

K využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence

Licenční poplatek

Poskytovatel licence na výsledek požaduje licenční poplatek

www

http://www.umel.feec.vutbr.cz/LabSensNano/products.aspx?id=140