Detail produktu

Epitaxní vrstva InN nadeponovaná nízkoteplotní aparaturou MOCVD

ŠIK, O. MÜNZ, F. VOBORNÝ, S. HUBÁLEK, J.

Typ produktu

funkční vzorek

Abstrakt

SEM, XPS a XRD analyza epitaxní vrstvy InN rostlé na safírovém substrátu metodou MOCVD.

Klíčová slova

InN, epitaxy, SEM, XPS, XRD, MOCVD

Datum vzniku

27.03.2018

Umístění

CEITEC, Research group RG102

Možnosti využití

K využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence

Licenční poplatek

Poskytovatel licence na výsledek požaduje licenční poplatek

www

Dokumenty