Detail předmětu

Microelectronic Technologies

FEKT-DPA-ME2Ak. rok: 2020/2021

Předmět je zaměřen na studium mikroelektronických technologií formou seminářů a samostudia. Student získá přehled o základních a pokročilých metodách a technikách, využítí materiálů a pravidlech vytváření mikrostruktur. Bude se umět orientovat v oblasti návrhu a výroby včetně využítí nanotechnologií v mikroelektronice.

Výsledky učení předmětu

Přehled metod a technik v tenkovrstvé a polovodičové technologii, schopnost návrhu miktrostruktur a nanostruktur za využití pokročilých technik výroby.

Prerekvizity

není

Doporučená nebo povinná literatura

H.O. Pierson, Handbook of Chemical Vapor Deposition. William Andrew Publishing, LLC Norwish, NY, USA, 1999, ISBN 0-8155-1432-8 (EN)
S. Sivaram, Chemical Vapor Deposition. International Thomson Publishing Inc., 1995, ISBN 0-442-01079-6 (EN)
M.A. Reed and T. Lee, Molecular Nanoelectronics. American Scientific Publisher, 2003, ISBN 1-58883-006-3 (EN)
MEMS and Nanotechnology Clearinghouse, http://www.memsnet.org (EN)
Courtesy Sandia National Laboratories, SUMMiTTM Technologies, www.mems.sandia.gov (EN)
Michael Kraft: Micromachined Inertial Sensors Recent Developments at BSAC, prezentace, Berkeley Sensor &Actuator Center, California,USA (EN)
C.T. Leondes, MEMS/NEMS Handbook: Techniques and Applications, Vol. 1-5. Springer Science, 2006 (EN)
H.S. Nalez, Handbook of Organic-Inorganic Hybrid Materials and Nanocoposities, Vol. 1-2, American Scientific Publisher, 2003. (EN)
TJ. Coutts, Active and Passive Thin Film Device. Academic Press, London 1978, pp.1-858 (EN)

Plánované vzdělávací činnosti a výukové metody

Metody vyučování závisejí na způsobu výuky a jsou popsány článkem 7 Studijního a zkušebního řádu VUT.

Způsob a kritéria hodnocení

Hodnocení ústní zkoušky dle připravené prezentace, pochopení problematiky, schopnost prezentovat a nastudovaná literatura.

Jazyk výuky

angličtina

Osnovy výuky

1. Elemental methods for the thin-film deposition,
2. Materials in the thin-film technology,
3. Topology design, lithography,
4. Anisotropic and isotropic etching of the microstructures,
5. The thermal and chemical oxidation,
6. Anodization,
7. Impurity diffusion,
8. Passive layers,
9. Modern methods of the microstructure creation,
10. MEMS,
11. Nanotechnology
12. Nanoelectronics,
13. NEMS.

Cíl

Student se seznámí se základními i pokročilými metodami a technikami vytváření mikrostruktur a polovodičových součástek, s materiály, pravidly pro jejich realizaci a moderními nanotechnologiemi v polovodičovém průmyslu.

Zařazení předmětu ve studijních plánech

  • Program DPA-KAM doktorský, libovolný ročník, letní semestr, 4 kredity, povinně volitelný
  • Program DPA-EKT doktorský, libovolný ročník, letní semestr, 4 kredity, povinně volitelný
  • Program DPA-MET doktorský, libovolný ročník, letní semestr, 4 kredity, povinně volitelný
  • Program DPA-SEE doktorský, libovolný ročník, letní semestr, 4 kredity, povinně volitelný
  • Program DPA-TLI doktorský, libovolný ročník, letní semestr, 4 kredity, povinně volitelný
  • Program DPA-TEE doktorský, libovolný ročník, letní semestr, 4 kredity, povinně volitelný

Typ (způsob) výuky

 

Seminář

39 hod., nepovinná

Vyučující / Lektor

eLearning