Ing.

Ondřej Šik

Ph.D.

FEKT, UFYZ – vědecký pracovník

+420 54114 6008
sikondrej@feec.vutbr.cz

Odeslat VUT zprávu

Ing. Ondřej Šik, Ph.D.

Tvůrčí aktivity

  • HOLCMAN, V.; MACKŮ, R.; ŠKARVADA, P.: Autoclav-01; Systém řízení Autoklávu s PLC AMIT. UFYZ - FEKT VUT. URL: http://www.ufyz.feec.vutbr.cz/veda-a-vyzkum/produkty. (software)
    http://www.ufyz.feec.vutbr.cz/veda-a-vyzkum/produkty, počet stažení: 1
    Detail

  • ŠKARVADA, P.; HOLCMAN, V.; VONDRA, M.; ŠIK, O.: AFCrjMv5.3; Řídicí jednotka AFCrjMv5.3 pro AFC verze 5kW. Baumann Technologie a.s.. URL: http://www.ufyz.feec.vutbr.cz/veda-a-vyzkum/produkty. (funkční vzorek)
    http://www.ufyz.feec.vutbr.cz/veda-a-vyzkum/produkty, počet stažení: 1
    Detail

  • TRČKA, T.; ŠIK, O.; GRMELA, L.; KNÁPEK, A.: Katody_2013; Software pro analýzu transportu nosičů náboje u autoemisních katod. Ústav fyziky, FEKT, VUT v Brně. URL: http://www.ufyz.feec.vutbr.cz/veda-a-vyzkum/produkty/. (software)
    http://www.ufyz.feec.vutbr.cz/veda-a-vyzkum/produkty/, počet stažení: 1
    Detail

  • HOLCMAN, V.; MACKŮ, R.; ŠIK, O.; ŠKARVADA, P.: Autoclav-02; Systém řízení Autoklávu. http://www.ufyz.feec.vutbr.cz/veda-a-vyzkum/produkty. URL: http://www.ufyz.feec.vutbr.cz/veda-a-vyzkum/produkty. (prototyp)
    http://www.ufyz.feec.vutbr.cz/veda-a-vyzkum/produkty, počet stažení: 1
    Detail

  • HOLCMAN, V.; MACKŮ, R.; ŠIK, O.; TOFEL, P.: AU_FY_01; PLC řízení procesu vytvrzování karbonových prvků. UFYZ FEKT VUT V Brně, fy Carbon, Lipnik nad Bečvou, http://www.ufyz.feec.vutbr.cz/veda-a-vyzkum/produkty. URL: http://www.ufyz.feec.vutbr.cz/veda-a-vyzkum/produkty. (prototyp)
    http://www.ufyz.feec.vutbr.cz/veda-a-vyzkum/produkty, počet stažení: 1
    Detail

  • TRČKA, T.; ŠIK, O.; BOGATYREVA, N.: Formovaní_5D; Softwarová podpora pro dlohodobé vícekanálové formovaní dielektrik kondenzátorů. http://www.ufyz.feec.vutbr.cz/veda-a-vyzkum/produkty/2014/softwarova-podpora-pro-formovani-dielektrik-kondenzatoru. URL: http://www.ufyz.feec.vutbr.cz/veda-a-vyzkum/produkty/2014/softwarova-podpora-pro-formovani-dielektrik-kondenzatoru. (software)
    http://www.ufyz.feec.vutbr.cz/veda-a-vyzkum/produkty/2014/softwarova-podpora-pro-formovani-dielektrik-kondenzatoru, počet stažení: 2
    Detail

  • HOLCMAN, V.; MACKŮ, R.; TOFEL, P.; ŠIK, O.: Carbon 1.5; Řízení procesu optimalizace a diagnostiky výroby karbonových dílů. Fy. Pro carbon Lipnik nad Bečvou, UFYZ FEKT. URL: http://www.ufyz.feec.vutbr.cz/veda-a-vyzkum/produkty. (funkční vzorek)
    http://www.ufyz.feec.vutbr.cz/veda-a-vyzkum/produkty, počet stažení: 1
    Detail

  • ŠIK, O.; MÜNZ, F.; VOBORNÝ, S.; HUBÁLEK, J.: InN MOCVD; Epitaxní vrstva InN nadeponovaná nízkoteplotní aparaturou MOCVD. CEITEC, Research group RG102. URL: http://www.umel.feec.vutbr.cz/LabSensNano/products.aspx?id=140. (funkční vzorek)
    http://www.umel.feec.vutbr.cz/LabSensNano/products.aspx?id=140, počet stažení: 1
    Detail

  • ŠIK, O.; VOBORNÝ, S.; MÜNZ, F.; HUBÁLEK, J.: GaN MOCVD; Epitaxní vrstva GaN nadeponovaná vysokoteplotní aparaturou MOCVD. CEITEC, Research group RG102. URL: http://www.umel.feec.vutbr.cz/LabSensNano/products.aspx?id=141. (funkční vzorek)
    http://www.umel.feec.vutbr.cz/LabSensNano/products.aspx?id=141, počet stažení: 1
    Detail

  • ŠIK, O.; VOBORNÝ, S.; MÜNZ, F.; HUBÁLEK, J.: GaN MOCVD; Epitaxní vrstva AlN nadeponovaná vysokoteplotní aparaturou MOCVD. CEITEC, Research group RG102. URL: http://www.umel.feec.vutbr.cz/LabSensNano/products.aspx?id=142. (funkční vzorek)
    http://www.umel.feec.vutbr.cz/LabSensNano/products.aspx?id=142, počet stažení: 1
    Detail

Pokud je v údajích nesrovnalost, podívejte se do častých otázek k vizitkám.