Publication detail

Investigation of RF low-temperature discharge by OES and GC-MS during deposition of silane based thin films

Rašková, Z., Brandejs, K., Cvrčková, O., Krčma, F.

Original Title

Investigation of RF low-temperature discharge by OES and GC-MS during deposition of silane based thin films

English Title

Investigation of RF low-temperature discharge by OES and GC-MS during deposition of silane based thin films

Type

conference paper

Language

en

Original Abstract

Práce podává přehled identifika hlavních spektrálních čar a pásů měřených během depozice s užitím HMDSO a TVS. Depoziční proces probíhal v pulsním režimu s proměnnou délkou pulsu. Kromě čistých monoměrů byla užívána i příměs kyslíku. Byly pozorovány změny v závoslosti na délce pulsu a složení reakční směsi. Složení plynu vystupujícího z plazmatu bylo sledováno pomocí GC-MS pro níž byly odebírány vzorky metou cold trap. Podařilo se zjistit dosud neznámou sloučeninu a byly navrženy možné reakční mechanismy vedoucí k jejímu vzniku.

English abstract

Práce podává přehled identifika hlavních spektrálních čar a pásů měřených během depozice s užitím HMDSO a TVS. Depoziční proces probíhal v pulsním režimu s proměnnou délkou pulsu. Kromě čistých monoměrů byla užívána i příměs kyslíku. Byly pozorovány změny v závoslosti na délce pulsu a složení reakční směsi. Složení plynu vystupujícího z plazmatu bylo sledováno pomocí GC-MS pro níž byly odebírány vzorky metou cold trap. Podařilo se zjistit dosud neznámou sloučeninu a byly navrženy možné reakční mechanismy vedoucí k jejímu vzniku.

Keywords

optical emission spectroscopy, CG-MS, tetravinylsilane deposition, effective power

RIV year

2004

Released

15.11.2004

Publisher

Matfyzpress

Location

Praha

ISBN

80-86732-32-0

Book

Proceedings of Week of Doctoral Students

Pages from

367

Pages to

372

Pages count

6

BibTex


@inproceedings{BUT17256,
  author="Zuzana {Rašková} and Kamil {Brandejs} and Olga {Cvrčková} and František {Krčma}",
  title="Investigation of RF low-temperature discharge by OES and GC-MS during deposition of silane based thin films",
  annote="Práce podává přehled identifika hlavních spektrálních čar a pásů měřených během depozice s užitím HMDSO a TVS. Depoziční proces probíhal v pulsním režimu s proměnnou délkou pulsu. Kromě čistých monoměrů byla užívána i příměs kyslíku.
Byly pozorovány změny v závoslosti na délce pulsu a složení reakční směsi.
Složení plynu vystupujícího z plazmatu bylo sledováno pomocí GC-MS pro níž byly odebírány vzorky metou cold trap. Podařilo se zjistit dosud neznámou sloučeninu a byly navrženy možné reakční mechanismy vedoucí k jejímu vzniku.",
  address="Matfyzpress",
  booktitle="Proceedings of Week of Doctoral Students",
  chapter="17256",
  institution="Matfyzpress",
  year="2004",
  month="november",
  pages="367",
  publisher="Matfyzpress",
  type="conference paper"
}