Patent detail

Způsob návrhu odrazných ploch reflexních zařízení pomocí analogie teplotního pole - radiace a vlnové rovnice a zařízení v podiobě světelné soustavy určené pro numerickou optimalizaci požadovaných světelných parametrů odrazných ploch

KROUTILOVÁ, E.

Patent type

Patent

Abstract

Patent "Způsob návrhu odrazných ploch reflexních zařízení pomocí analogie teplotního pole - radiace a vlnové rovnice a zařízení v podiobě světelné soustavy určené pro numerickou optimalizaci požadovaných světelných parametrů odrazných ploch" se týká nového způsobu návrhu odrazných ploch reflexních zařízení pomocí analogie teplotního pole - radiace a vlnové rovnice a zařízení v podiobě světelné soustavy určené pro numerickou optimalizaci požadovaných světelných parametrů odrazných ploch

Keywords

návrh odrazných ploch, světelné soustavy

Patent number

200865

Date of application

4. 2. 2008

Date of registration

4. 2. 2009

Date of expiry

4. 2. 2010

Publisher

Úřad průmyslového vlastnictví, ANtonína Čermáka 2a, Praha

Owner

Ing. Eva Kroutilová, Ph.D.

Possibilities of use

In order to use the result by another entity, it is always necessary to acquire a license

Licence fee

The licensor does not require a license fee for the result