This project was co-financed with state support of the CR Technological Agency as part of 1. veřejná soutěž Programu podpory aplikovaného výzkumu, experimentálního vývoje a inovací DELTA 2 2019
www.tacr.cz
Research useful for society.

Project detail

Vlnově opticke kontrasty v SEM

Duration: 01.01.1999 — 31.12.2002

Funding resources

Technologická agentura ČR - 1. veřejná soutěž Program podpory aplikovaného výzkumu, experimentálního vývoje a inovací DELTA 2 2019

- whole funder (2003-05-19 - not assigned)

Mark

A1065901

Default language

Czech

People responsible

Musil Vladislav, prof. Ing., CSc. - principal person responsible

Units

Department of Microelectronics
- (2003-05-19 - not assigned)

Results

MIKA, F.; FRANK, L. Kvantitativní studium hustoty rozložení dopantu v polovodiči pomocí emise sekundárních elektronů. In Sborník prací prezentovaných na semináři doktorandů oboru Elektronová optika. BRNO: UPT AV ČR, Brno, 2002. s. 23 ( s.)ISBN: 80-238-9915-5.
Detail

MIKA, F.; FRANK, L. QUANTITATIVE PROFILING OF DOPANT CONCENTRATION IN SEMICONDUCTOR BY SECONDARY ELECTRON EMISSION. In Proceedings of the 10th conference STUDENT EEICT 2004. 2004. p. 646 ( p.)ISBN: 80-214-2636-5.
Detail

MIKA, F.; FRANK, L. CONTRAST GENERATION IN LOW ENERGY SEM IMAGING OF DOPED SEMICONDUCTOR. In Recent Trends in charged particle optics and surface physics instrumentation. Brno: 2004. p. 51 ( p.)ISBN: 80-239-3246-2.
Detail

MIKA, F.; FRANK, L. Kvantitativní studium hustoty rozložení dopantu v polovodiči pomocí emise SE. In PDS 2003. Brno: 2004. s. 39 ( s.)ISBN: 80-239-2268-8.
Detail

Responsibility: Musil Vladislav, prof. Ing., CSc.